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            博福特公司自引入美國技術,用于以極紫外(EUV)光刻技術進行批量IC制造。與國外芯片制造設備制造商密切互動而開發,已率先獲得企業的測試認證,并已用于BFT:6000B等產品。

            隨著半導體行業開始更多地使用EUV光刻技術進行先進技術制程的大批量制造(HVM),對EUV光罩無缺陷的要求比以往任何時候都要嚴格。BEAUFORT的EUV 光罩盒已經過全面認證,可用于他們的最新一代光刻機,并展現了出色的EUV光罩保護性能,包括解決最關鍵的微粒污染挑戰。BEAUFORT的BFT-6000B 也因此讓客戶能夠安全地過渡到最先進的光刻工藝所需的越來越小的線寬。

            為了在光刻機中實現上述性能,BEAUFORT開發了用于接觸光罩和控制環境的新技術。BEAUFORT  BFT-6000B代表了缺陷率改進方面的重大突破,得益于此,先進技術制程客戶可以專注于提高效率和產量。與國外光刻機企業的良好互動和測試確保了符合最先進的EUV光刻機的要求。

            關于BEAUFORT

            BEAUFORT是面向微電子和其他高科技行業的先進材料解決方案領域的領導者。


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